KRI 線性霍爾離子源 eH Linear
上海伯東代理美國原裝進口 KRI 線性離子源使用 eH 400 做為模組, 能應用于寬范圍的襯底, 離子源長度高達 1 米, 通過嚴格調整模組間的距離可以實現(xiàn)更佳的均勻性和離子流. 由于模組是平行放置, 大大簡化了氣體, 功率和電子三者的分布. KRI 線性離子源使用標準的端部霍爾模組并使設備的需求簡化, 一個低成本, 高電流和低能量的離子束可以很好的使用于 web 涂層, in-line 沉積和圓柱旋轉濺射系統(tǒng).
霍爾離子源 eH 400 尺寸
尺寸: 直徑= 3.7“ 高= 3”
放電電壓 / 電流: 50-300eV / 5A
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機前體
KRI 霍爾離子源 eH Linear 技術參數(shù)
|
型號
|
eHL400-2/ eHL400-3/ eHL400-4/ eHL400-5
|
|
供電
|
DC magnetic confinement
|
|
- 電壓
|
40-200V VDC
|
|
- 陽極結構
|
模塊化
|
|
電源控制
|
eHL-30010A
|
|
配置
|
-
|
|
- 陰極中和器
|
Filamentless
|
|
- 離子束發(fā)散角度
|
> 45° (hwhm)
|
|
- 陽極
|
標準或 Grooved
|
|
- 底座
|
移動或快接法蘭
|
|
- 高度
|
10 cm
|
|
寬度
|
10 cm
|
|
- 長度
|
~ 100cm
|
|
-工藝氣體
|
Ar, Xe, Kr, O2, N2, Others
|
|
Model
|
eHL 200-3
|
eHL 200-5
|
|
Height (nominal)
|
2.9” (7.4cm)
|
2.9” (7.4cm)
|
|
Width (nominal)
|
3.3” (8.4cm)
|
3.3” (8.4cm)
|
|
Length (nominal)
|
Determined by number of modules & application
|
Determined by number of modules & application
|
|
Cathode/Neutralizer
|
Yes
|
Yes
|
|
Anode module
|
Yes
|
Yes
|
|
Filamentless
|
Yes
|
Yes
|
|
Orientation
|
Vertical / Horizontal
|
Vertical / Horizontal
|
|
Process gases
|
Inert, reactive, & organic
|
Inert, reactive, & organic
|
|
Power controller
|
eH Plasma Power Pack
|
eH Plasma Power Pack
|
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD **域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.
若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯(lián)絡方式:
上海伯東: 羅**生 臺灣伯東: 王女士
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958
www.hakuto-china.cn www.hakuto-vacuum.com.tw
伯東版權所有, 翻拷必究!
[誠信檔案]
