MoN薄膜是一種具有潛在應用價值的薄膜材料, 但對于其結構和性能的研究還較少. 因此，廣州某研究機構采用KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 在 304 不銹鋼基體表面濺射沉積 MoN薄膜, 系統研究了 MoN 薄膜在不同摩擦條件下的摩擦磨損行為.

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP220 技術參數:

* 可選: 燈絲中和器; 可變長度的增量

結果表明:

偏壓顯著影響直流磁控沉積的 MoN 薄膜的晶相結構、表面形貌、斷面結構、硬度和摩擦磨損性能;隨脈沖偏壓的增大, MoN 薄膜的膜厚、硬度都**增大后減小, 而薄膜的磨損率卻**減小后增大, 其中 -500 V 脈沖偏壓下沉積的 MoN 薄膜具有**高硬度為 7731 N/mm~2, 以及**低的磨損率為 5.8×10~(-7)mm~3/(N·m).  此外, MoN 薄膜在不同載荷和轉速的摩擦條件下表現出不同的摩擦學行為.
 

KRI 離子源的**特功能實現了更好的性能, 增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術的情況下是無法實現的.

因此, 該研究項目才采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助濺射沉積工藝.

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