北京某研究院采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 濺射沉積制備碳薄膜, 同時在室溫和無催化層襯底的條件下, 探究離子束能量和沉積時間對碳納米薄膜成膜的影響.

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP220 技術參數:

* 可選: 燈絲中和器; 可變長度的增量

該濺射沉積是在氣壓為 1.33×10^-4Pa 和襯底溫度為室溫條件下,利用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 濺射石墨, 在無催化層的硅(Si)襯底上加工碳納米薄膜.

通過拉曼光譜對碳納米薄膜表面物質的組成進行了分析; 利用掃描電鏡(SEM)和原子力顯微鏡(AFM)來顯示薄膜的表面結構; 實驗結果顯示, 輻照時間對 ID/IG 的比值以及碳晶粒的大小都有顯著的影響, 并且高離子束能量能夠促進碳晶粒的結晶. 同時, 在高能量的離子束下沉積碳納米薄膜, 在 Si 表面發現了特殊圖案的碳納米結構: 雪花狀, 方塊狀及四角星狀.

KRI 離子源的**特功能實現了更好的性能, 增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術的情況下是無法實現的.

因此，該研究項目才采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助濺射沉積工藝.

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵,  檢漏儀,  質譜儀,  真空計,  美國 KRI 考夫曼離子源,  美國HVA 真空閥門,  美國 inTEST 高低溫沖擊測試機,  美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品**的指定代理商.

若您需要進一步的了解詳細信息或討論,  請參考以下聯絡方式:

上海伯東: 羅**生                               臺灣伯東: 王女士
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

伯東版權所有,  翻拷必究!